sputteringAlpha

効果


スパッタリングを描画します。
もともと「タタキ」とか「スパッタリング」と呼ばれていたセル彩色時の処理をエミュレーションしたものです。

描画する位置をアルファーチャンネルの値で識別します。

sputteringAlpha03.png
上の画像に適用させると、以下のようにランダムな粒を描画します。

sputteringAlpha04.png

用途

簡易的なパーティクルとして使います。
波のセルに適用させて、波しぶきを作ったりします。

オプション


sputteringAlpha01.png

seed 乱数の初期値を指定。これを液糖に動かすと粒子の位置がランダムに動きます。
vakue(%) 不透明な位置で粒子が発生する量を%で指定
edge_vakue(%) 不透明と透明な部分との境界線上で発生する粒子の量を指定
opacity_rand 粒子の透明度のばらつきを指定
PointValue 粒子の発生点で描画される粒の数を指定
PointLength 粒子の発生点で描画される粒の散らばり具合をピクセルで指定
size 粒子の最大の大きさを指定
sputteringAlpha02.png
Color1 描画される粒子の色1を指定
ColorMax 描画される粒子の色の数を指定
Color2 描画される粒子の色2を指定
Color3 描画される粒子の色3を指定
Color4 描画される粒子の色4を指定
Blend with original ONで元の画像も描画します。